ALD technológia

Laboratórium je súčasťou  Centra aplikovaného výskumu.
Laboratórium umožňuje prípravu tenkých vrstiev Al₂O₃, TiO₂, HfO₂ a ZnO nanášaním po atomárnych vrstvách. Vrstvy sú rastené s využitím termálneho módu, ozónu ako aj za asistencie plazmy pri teplotách do 350 °C.

Zariadenie:

• Beneq TFS 200, Systém pre prípravu tenkých vrstiev nanášaním po atomárnych vrstvách

Využitie:

• Hradlová izolácia pre súčiastky s vysokou phyblivosťou elektrónov na báze GaN a GaAs
• Tenkovrstvové štruktúry na báze TiO₂ a HfO₂ pre odporové spínanie
• Fotoanódy pre rozklad vody na báze štruktúr kov-izolant-polovodič

Kontakt: K. Fröhlich, tel.: 02-5922-2641

Prístup: na základe požiadavky

Cena: 0 Eur/hodinu pre zamestnancov ElÚ SAV

Zariadenie pre prípravu tenkých vrstiev nanášaním po atomárnych vrstvách Beneq TFS 200