Ing. Alica Rosová, CSc.
Národné
Aktuálne
- Vertikálne GaN súšiastky s poloizolačným kanálom a inovatívnou 3D gatesource architektúrou pre výkonové aplikácieProgram: APVVDoba trvania: 1. 9. 2026 – 31. 8. 2030
- Vertikálne GaN MOS tranzistory s poloizolačným kanálom pre zvýšenie prierazného napätia vo vypnutom staveProgram: VEGADoba trvania: 1. 1. 2026 – 31. 12. 2029
- Nové heteroštruktúry pre (sub)THz elektronikuProgram: APVVDoba trvania: 1. 9. 2025 – 31. 8. 2029
- Výkonové tranzistory na báze oxidu galitého pre vysokonapäťové aplikácieProgram: APVVDoba trvania: 1. 9. 2025 – 31. 8. 2029
- MOCVD heteroepitaxia a analýza porúch tenkých vrstiev Ga2O3 pre pokročilé detektory UV-C žiareniaProgram: APVVDoba trvania: 1. 7. 2026 – 30. 6. 2028
Ukončené
- Kritické aspekty rastu polovodičových štruktúr pre novú generáciu III-N súčiastokProgram: VEGADoba trvania: 1. 1. 2022 – 31. 12. 2025
- Supravodivé spoje pre MgB2 vinutia v perzistentnom módeProgram: VEGADoba trvania: 1. 1. 2022 – 31. 12. 2025
- Ultratenké homogénne povrchové vrstvy na štruktúrach komplexnej morfológie pre vylepšenie výkonu batérii využitím depozície po atómových vrstváchProgram: VEGADoba trvania: 1. 1. 2022 – 31. 12. 2025
- Moderné elektronické súčiastky na báze ultraširokopásmového polovodiča Ga2O3 pre budúce vysokonapäťové aplikácieProgram: APVVDoba trvania: 1. 7. 2021 – 30. 6. 2025
- p-GaN elektronika pre úsporu energie a post-CMOS obvodyProgram: APVVDoba trvania: 1. 7. 2022 – 30. 6. 2025