Laboratórium je súčasťou Centra aplikovaného výskumu. Slúži na vývoj moderných elektronických zariadení, snímačov a tranzistorov. Pozostávajú z dvoch miestnosti: laboratórium fotolitografie a laboratórium pre nanášanie kovov. Trieda čistoty je 1 000 podľa normy US Fed. Štandard 209 (trieda ISO 6 podľa normy ISO 14644-1), počet prachových častíc sa udržiava na 1 000 častíc veľkosti 0,3 μm a väčších na kubickú stopu. Výkonný systém vzduchotechniky udržiava aj konštantnú teplotu (22 °C) a vlhkosť (40%).
Zariadenia:
- expozičné zariadenia KARL SUSS MJB 4 (DEEP UV, rozlíšenie menej ako 0,5 μm) a KARL SUSS MJB 3
- ovrstvovač substrátov Spin coater WS-400B Lite Laurell Technologies
- nízkotlakový plazmový systém Low pressure plasma system FEMTO (RF-výkon max. 100 W)
- optický mikroskop AXIO LAB A1 s digitálnou kamerou AxioCam ERc5S
- systém na čistenie vody DIRECT-Q 3 UV-R
Využitie:
- optická fotolitografia
- príprava a spracovanie vzoriek pre elektrónovú litografiu
- opracovanie povrchov kyslíkovou plazmou
- mokré leptanie pomocou vysokokvalitných VLSI chemikálií
Fotolitografické laboratórium v Čistých piestoroch
Kontakt: Ing. Eva Kováčová, tel.: 02-5922 2937
Prístup: prístup so sprievodom
Cena: 10 EUR/hod. pre zamestnancov SAV (prevádzkové náklady)
Dokumentácia: SUSS MJB4