PLD technológia

Laboratórium pulznej laserovej depozície umožňuje prípravu rôznych typov, hlavne tenkých oxidových vrstiev multivrstiev v jednom vákuovom cykle. Výhodou takejto metódy nanášania vrstiev je nižšia depozičná teplota a menší rozmer terčíkov.

Zariadenie:

• KrF excimerový laser (248 nm) s opakovacou frekvenciou 1-20 Hz a maximálnou energiou 370 mJ
•  2 palcový držiak podložiek (kompatibilný s kyslíkovou atmosférou) s programovateľným  regulátorom teploty podložky 950 °C (pre Si) a 850 °C (pre priehľadné podložky)
•  Programovateľné nastavenie vzdialenosti terč-podložka od 55 to 105 mm, základný tlak 5× 10^-7 Torr
• Inteligentné okno pre čistú dráhu optického lúča a mechanizmus pre meranie energiu lúča
• Počet terčíkov: šesť, maximálny rozmer podložky F=25,4 mm

Využitie:

• Príprava vysokokvalitných supravodivých, manganitových, dielektrických (oxidových) vrstiev pri nízkej depozičnej teplote
• Príprava multivrstvových štruktúr s hrúbkami až niekoľkých atomárnych vrstiev

Kontakt:  Š. Chromik, Tel.: +421-2-5922 2339

Prístup: prístup pod odborným dohľadom, rezervovanie e-mailom alebo telefonicky

Cena: 0 Eur/hodina pre zamestnancov SAV

MBE/PLD-2000 Pulsed Laser Deposition zariadenie.

YBCO vrstva pripravená na dvojpalcovej r-zafírovej podložke s bufferovou vrstvou CeO2