RNDr. Štefan Haščík, PhD.
Publikácie za rok 2025
Publikačná činnosť obsahuje údaje z on-line databázy Ústrednej Knižnice SAV.
Publikácie
- IZSÁK, Tibor - HAŠČÍK, Štefan - KOVÁČOVÁ, Eva - VOJS, M. - ZAŤKO, Bohumír. Influence of plasma etching conditions on the farbrication of high aspect ratio GaAs structures for radiation detectors. In Proceedings of ADEPT 2025 : 13th International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies - ADEPT, held in Podbanské, High Tatras, Slovakia, June 15th – 18th, 2025. Eds. D. Jandura, I. Lettrichová. - Žilina : University of Zilina in EDIS, 2025, p. 182-185. ISBN 978-80-554-2208-4. (APVV 22-0382) Typ: AFD
- KUZMÍK, Ján** - BLAHO, Michal - GREGUŠOVÁ, Dagmar - ELIÁŠ, Peter - POHORELEC, Ondrej - HASENÖHRL, Stanislav - HAŠČÍK, Štefan - GUCMANN, Filip - ZÁPRAŽNÝ, Zdenko - DOBROČKA, Edmund - KYAMBAKI, M. - KONSTANTINIDIS, G. Growth and performance of n++ GaN cap layer for HEMTs applications. In Materials science in semiconductor processing, 2025, vol. 185, no. 108959. (2024: 4.6 - IF, Q2 - JCR, 0.785 - SJR, Q1 - SJR). ISSN 1369-8001. Dostupné na: https://doi.org/10.1016/j.mssp.2024.108959 (VEGA 2/0005/22. Horizont Európa-101091433. VEGA 2/0068/21) Typ: ADCA