Zoznam článkov

512
Predstavenie kandidáta na funkciu riaditeľa ElÚ SAV, v.v.i.

Výberová komisia pre voľbu riaditeľa Elektrotechnického ústavu SAV, v.v.i. (ElÚ SAV) a Vedecká rada  ElÚ SAV  Vás všetkých pozývajú na predstavenie kandidáta na funkciu riaditeľa ElÚ SAV, Ing. Milana Ťapajnu, PhD., ktoré sa uskutoční dňa 26. novembra 2025 o 11:00 hod. v zasadačke ústavu (miestnosť č. 101). Kandidát na funkciu riaditeľa predloží všetkým zamestnancom organizácie svoj návrh koncepcie a riadenia organizácie….

»
610
Vysoko dopovaná GaN vrstva prináša stabilnejšie HEMT tranzistory bez straty prúdu

Vysoko kremíkom dopované vrstvy nitridu gália (n++ GaN) zohrávajú dôležitú úlohu pri vývoji moderných tranzistorov s vysokou pohyblivosťou elektrónov (HEMT), ktoré sa uplatňujú v telekomunikáciách aj výkonovej elektronike. Naši kolegovia a kolegyne z oddelenia III-V polovodičov skúmali rast týchto vrstiev pomocou techniky MOCVD pri teplote 800 °C a analyzovali, ako prietok kremíkového prekurzora (SiH₄) ovplyvňuje…

»
1024
Prednáška Dr. Gábora Méhesa z Waseda Univerzity v Japonsku

Elektrotechnický ústav SAV, v. v. i. pozýva na prednášku Dr. Gábora Méhesa (Waseda University, Japonsko) dňa 08. 10. 2025, o 9.30 hod., vo veľkej zasadacej miestnosti Elektrotechnického ústavu SAV, v.v.i. (miestnosť č. 101), Dúbravská cesta 9, Bratislava. Názov prednášky: Pokroky v oblasti organickej elektroniky a bioelektroniky prostredníctvom výskumu v Japonsku, Švédsku a USA. Dr. Gábor Méhes je docentom na Waseda Univerzite…

»
Voľná pozícia: Rast a príprava III-N kvantových štruktúr pre rýchlu elektroniku

Predmetom práce voľnej pozície bude rast a príprava epitaxných III-N kvantových štruktúr narastených pomocou chemickej depozície z kovovo-organických pár. Jedná sa predovšetkým o systémy na báze In(Al)N pre ultra-rýchle tranzistory, elektroniku zmiešaných signálov, ako aj štúdium vertikálnych spínačov na báze GaN. Materiálový výskum bude zahŕňat viaceré techniky na posúdenie štrukturálnych, elektrických a optických vlastností narastených epitaxných vrstiev….

»
355
InN/InAlN heteroštruktúry pre novú generáciu rýchlej elektroniky

InN je uznávaný ako vynikajúci kandidát pre ultra-rýchlu elektroniku už takmer dve desaťročia. Nedávno sme tieto očakávania podporili tým, že sme extrahovali rýchlosť elektrónov 1 × 108 cm/s v 775 nm hrubej vrstve InN, čo je doteraz najvyššia zaznamenaná hodnota v akomkoľvek polovodičovom materiáli. V našej práci predstavujeme koncept N-polárnych InN/InAlN heteroštruktúr. 20 nm hrubý InN…

»